摘要：采用我國2006—2017年31個省級(除港、澳、臺)面板數據,構建動態面板回歸模型和動態面板門限回歸模型,對政府研發投入的“激勵效應”以其在專利保護強度異質性條件下的動態變化進行實證檢驗。研究結果表明,政府研發投入顯著促進了區域創新水平的提升,且兩者之間的關系存在基于知識產權保護強度異質性的雙重門限效應。具體來說,當知識產權保護強度過低或過高時,都會出現“策略性”創新行為,只有適度的知識產權保護水平,才有助于發揮政府研發投入對區域創新水平的“激勵效應”;且進一步研究發現,我國大部分地區正處于知識產權保護中強度區間范圍內。最后基于以上實證研究結果,從知識產權保護、政府補助等角度提出政策建議。