首頁 > 期刊 > 自然科學(xué)與工程技術(shù) > 工程科技I > 金屬學(xué)及金屬工藝 > 熱噴涂技術(shù) > MCrAlY涂層對單晶中γ'相消耗及TCP相生成影響的模擬研究 【正文】
摘要:高溫下,MCrAlY涂層與高溫合金單晶基材之間會發(fā)生元素互擴(kuò)散,引起顯微組織結(jié)構(gòu)變化,往往造成單晶中具有析出強(qiáng)化作用的γ'相的消耗和對力學(xué)性能有害的拓?fù)涿芏?Topological closed packed,TCP)相的生成。本研究采用擴(kuò)散模擬計算的方法,設(shè)計了 6種 MCrAlY模型涂層,分析 Co、Cr、Al主元素對 DD6單晶基材顯微組織的影響規(guī)律。研究結(jié)果表明,基材中γ'相消耗區(qū)在靠近涂層-基材界面處形成,該區(qū)的形成主要與 Co、Cr元素內(nèi)擴(kuò)散相關(guān)。基材中 TCP相則在更深位置的γ'相富集區(qū)內(nèi)生成,γ'相富集區(qū)與 Al元素內(nèi)擴(kuò)散有關(guān)。另外,本文著重分析了涂層成分對γ'相消耗區(qū)深度及 TCP相生成含量與深度的影響。
注:因版權(quán)方要求,不能公開全文,如需全文,請咨詢雜志社
主管單位:中國有色金屬工業(yè)協(xié)會;主辦單位:礦冶科技集團(tuán)有限公司