摘要：為了提高頂發(fā)射OELD的效率,降低電壓,基于納秒激光刻蝕技術制備了一種用于頂發(fā)射OLED的低成本可重復的方形微結構陣列基板,在此基礎上制備了頂發(fā)射OLED器件。實驗發(fā)現(xiàn),利用這種基板可以有效提高器件的出光效率,降低器件的驅動電壓。其中,使用20μm的方格微結構陣列基板的器件的最高效率達到66.7cd/A,40mA/cm~2下亮度達到20 103cd/m~2,相比于未經(jīng)刻蝕的無結構器件分別提高9.8%和6.9%;而使用40μm的方格微結構陣列基板的器件驅動電壓最低,在40mA/cm~2下為9.58V,相較未經(jīng)刻蝕的無結構器件降低了0.26V。分析表明,器件光效的提升和驅動電壓的降低主要有兩點原因:首先由于基于微結構陣列基板制備的器件中存在褶皺結構,可以破壞器件的光波導,并且增大了器件面積而降低驅動電壓;其次納秒激光刻蝕產(chǎn)生的光柵條紋可以提高光提取效率,同時增強局部電場以提高電極的載流子注入能力。