《半導體光子學與技術》雜志的錄用到發表周期涉及多個環節，具體時間因投稿時間、稿件質量、欄目安排等因素而有所不同，若需進一步了解詳情，可聯系雜志社或咨詢在線客服。

以下是對錄用到發表過程的詳細分析：

1、審稿周期

初審：一般在投稿后預計1個月內內完成，如果超過時間未收到初審結果，可以主動聯系雜志社。

復審和終審：初審通過后，稿件進入復審和終審階段，復審時間相對較長，可能需要數周至數月不等，具體時間取決于復審專家的評審進度和稿件質量。

2、錄用后到發表

校稿和修改：錄用后，作者可能需要根據雜志社的意見進行多次校稿和修改，這一過程的時間因稿件情況而異。

見刊周期：《半導體光子學與技術》雜志季刊，具體時間取決于稿件的排期和雜志的出版計劃。

作者應提前了解相關流程和時間要求，合理安排投稿計劃，并耐心等待審稿結果。

《半導體光子學與技術》雜志創刊于1995年，是由信息產業部主管、重慶光電技術研究所主辦的學術理論期刊。它以研究和解決科技理論為核心，致力于探索科技規律，為深化科技改革、繁榮科技科學服務。

作為一本具有較高學術價值的季刊，《半導體光子學與技術》雜志在科技領域具有廣泛的影響力，是全國科技學術理論界較有影響的雜志之一。

它面向全國公開發行，是科技領域中重要的省級期刊，該雜志的國際標準刊號：1007-0206，國內統一刊號：50-1093/TN，每期都承載著豐富的科技理論，為廣大科技工作者提供寶貴的學術資源。

《半導體光子學與技術》雜志現獲得重要學術榮譽：Caj-cd規范獲獎期刊、中國優秀期刊遴選數據庫、中國期刊全文數據庫（CJFD）等，其學術地位和影響力得到了廣泛認可。

該雜志被知網收錄(中)、維普收錄(中)、萬方收錄(中)、CA 化學文摘(美)、JST 日本科學技術振興機構數據庫(日)、國家圖書館館藏、上海圖書館館藏等重要數據庫收錄，為廣大讀者提供了便捷的檢索和獲取途徑。

《半導體光子學與技術》雜志社位于重慶南坪花園路14號44所（南坪2514信箱），主編為劉俊剛。

綜上所述，《半導體光子學與技術》雜志在科技理論與實踐的交匯點上發揮著重要作用，是科技研究者和實踐者不可或缺的學術資源。

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