《Radiophysics And Quantum Electronics》雜志屬于中科院分區：4區，影響因子是：0.8。
出版周期：Monthly
OA是否開放：未開放
Gold OA文章占比：0.00%
是否預警：否
出版語言：English
中科院分區信息：
從大類學科分區來看，《Radiophysics And Quantum Electronics》雜志在中科院最新升級版分區表中位于地球科學4區。地球科學是一個廣泛的學科領域，涵蓋了從工程：電子與電氣的各個層面。該雜志能夠躋身4區，足以證明其在地球科學領域內的學術水平和影響力。
進一步細分到小類學科，該雜志則屬于ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC工程：電子與電氣領域，位于4區。
中科院分區信息
放射物理學和量子電子學2023年12月升級版
| 大類學科 | 分區 | 小類學科 | 分區 | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 地球科學 | 4區 |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
PHYSICS, APPLIED
物理：應用
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
|
4區
4區
4區
|
否 | 否 |
放射物理學和量子電子學2022年12月升級版
| 大類學科 | 分區 | 小類學科 | 分區 | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術 | 4區 |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
PHYSICS, APPLIED
物理：應用
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
|
4區
4區
4區
|
否 | 否 |
放射物理學和量子電子學2021年12月舊的升級版
| 大類學科 | 分區 | 小類學科 | 分區 | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術 | 4區 |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
PHYSICS, APPLIED
物理：應用
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
|
4區
4區
4區
|
否 | 否 |
放射物理學和量子電子學2021年12月基礎版
| 大類學科 | 分區 | 小類學科 | 分區 | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術 | 4區 |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
PHYSICS, APPLIED
物理：應用
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
|
4區
4區
4區
|
否 | 否 |
放射物理學和量子電子學2021年12月升級版
| 大類學科 | 分區 | 小類學科 | 分區 | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術 | 4區 |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
PHYSICS, APPLIED
物理：應用
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
|
4區
4區
4區
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否 | 否 |
放射物理學和量子電子學2020年12月舊的升級版
| 大類學科 | 分區 | 小類學科 | 分區 | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術 | 4區 |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
PHYSICS, APPLIED
物理：應用
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
|
4區
4區
4區
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否 | 否 |
中科院JCR期刊分區（又稱分區表、分區數據）是中國科學院文獻情報中心世界科學前沿分析中心的科學研究成果。在中科院期刊分區表中，主要參考3年平均IF作為學術影響力，最終每個分區的期刊累積學術影響力是相同的，各區的期刊數量由高到底呈金字塔式分布。
影響因子：0.8。從影響因子的角度來看，《Radiophysics And Quantum Electronics》雜志也表現出色，該雜志影響因子在不同年份有所波動，但總體呈上升趨勢，這種趨勢不僅反映了該雜志在學術界的影響力逐漸增強，也體現了其在推動ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-PHYSICS, APPLIED領域發展方面的積極作用。
從JCR分區信息的角度，
按JIF指標學科分區分為：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，分區：Q4，排名：301 / 352，百分位：14.6%；PHYSICS, APPLIED，分區：Q4，排名：165 / 179，百分位：8.1%；PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，分區：Q4，排名：37 / 40，百分位：8.8%；
按JCI指標學科分區分為：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，分區：Q4，排名：307 / 354，百分位：13.42%；PHYSICS, APPLIED，分區：Q4，排名：160 / 179，百分位：10.89%；PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，分區：Q4，排名：39 / 40，百分位：3.75%；
JCR分區信息
Radiophysics And Quantum Electronics（2023-2024年最新版數據）
| 按JIF指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
| 學科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q4 | 301 / 352 |
14.6%
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| 學科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 165 / 179 |
8.1%
|
| 學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q4 | 37 / 40 |
8.8%
|
| 按JCI指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
| 學科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q4 | 307 / 354 |
13.42%
|
| 學科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 160 / 179 |
10.89%
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| 學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q4 | 39 / 40 |
3.75%
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湯森路透每年出版一本《期刊引用報告》（Journal Citation Reports，簡稱JCR）。JCR對86000多種SCI期刊的影響因子（Impact Factor）等指數加以統計。JCR將收錄期刊分為176個不同學科類別在JCR的Journal Ranking中，主要參考當年IF，最終每個分區的期刊數量是均分的。
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